ASML maakt eerste 193-nm scanner voor 300-mm production fabs

3 reacties

Neerlands trots ASML heeft, naar eigen zeggen, 's wereld meest geavanceerde argon-fluoride (ArF) 193 nm belichtingsapparaat voor 300 mm wafer processing ontwikkeld. De nieuwe AT:1100 scanner is gericht op de productie van grote hoeveelheden van zowel 200- als 300-mm wafers middels 0.10-micron technologie. ASML zegt al orders van enthousiaste klanten binnen te hebben.

Het complete verhaaltje is redelijk technisch, maar de liefhebbers kunnen dit hier nog eens nalezen.

Bron: ASML

« Vorig bericht Volgend bericht »
0
*