Onderzoekers maken nieuwe displaytechnologie voor veel hogere resoluties

43 reacties

LG Display heeft een onderzoek van de Materials Science and Engineering-afdeling van de Yonsei University in Zuid-Korea gesponsord. De onderzoekers zochten een manier om de belemmeringen in de ontwikkeling en productie van displays met resoluties van 'micron-schaal' op te lossen.

De techniek maakt gebruik van 'Near-field sub-diffraction-fotolithografie', waarmee op een kostenefficiënte manier displays met een dergelijk hoge resolutie te maken moeten zijn. Het bestaande far-field-fotolithografie heeft inmiddels zo'n beetje de diffractielimiet van het licht bereikt bij de huidige hoge pixeldichtheden. Dat zorgt ervoor dat hogere resoluties nagenoeg niet te maken zijn met deze productiemethode.

De nieuwe technologie maakt gebruik van metalen patronen in een elastomerisch fotomasker. Hiermee moeten diffracties van minder dan een tiende van het licht dat er doorheen moet mogelijk zijn, waardoor veel hogere resoluties mogelijk zijn. De hoogste 'lijn-resolutie' die de universiteit heeft kunnen behalen lag onder de 40 nanometer, wat een tiende was van de diffractielimiet van de betreffende golflengtes.

Er is gebruikgemaakt van het materiaal indiumgalliumzinkoxide, in combinatie met ito-elektroden. Ook gekromde displays moeten een mogelijkheid zijn. Het moet nuttig zijn voor zowel lcd- als oled-panelen.

Bronnen: LG Display, Nature

« Vorig bericht Volgend bericht »
0
*