IBM investeert 200 miljoen Dollar in 45nm fabricage proces

3 reacties


IBM en het Japanse Toppan Printing Co Ltd hebben eind mei aangekondigd dat zij gezamenlijk 200 miljoen Dollar zullen investeren in een 45nm productieproces. Dit nieuwe productieproces moet midden 2007 gereed zijn om in gebruik te worden genomen. Onderzoek en testwerk zullen worden uitgevoerd op de Amerikaanse vestigingen van IBM. Nadat het nieuwe proces gereed is, zal Toppan het implementeren op haar eigen vestigingen.

Het nieuwe 45nm proces is een "photomask" technologie, waarmee patronen van geïntegreerde circuits (IC) worden geëtst op wafels van silicium. Momenteel worden processors door middel van 90nm en 65nm technologieën geproduceerd. Door de afstand tussen transistors te reduceren tot 45nm kunnen hetzij meer transistors op één computerchip, kunnen chips van kleinere afmetingen worden gemaakt danwel kunnen meer chips uit één silicium wafel worden geproduceerd.

IBM verwacht dat als gevolg van haar investering andere bedrijven waarschijnlijk extra zullen investeren in de ontwikkeling van de 45nm technologie. IBM verwacht een leidende rol in te nemen in de ontwikkeling van het 45nm proces. [Constant]

Bron

  • Computer Business Review

    Bron: Computer Business Review

    « Vorig bericht Volgend bericht »
  • 0
    *