TSMC begint met 5nm-proces

16 reacties

Tijdens een managementvergadering eerder deze maand zei Mark Liu, CEO van TSMC, dat het bedrijf is begonnen met werken aan zijn 5nm-productieproces. Er werd onder meer besproken dat TSMC verdergaat met dit proces, maar dat het nog onzeker is of ze volledig gebruik gaan maken van Extreme Ultraviolet Light (EUV) voor zijn 5nm-procedé.

TSMC heeft een 'future roadmap' waarop we kunnen zien dat 5nm transistors genoemd worden onder het kopje 'long-term research' met een doelstelling om in de periode 2014-2019 te lanceren. ASML levert de techniek voor EUV, terwijl concurrent Nikon komt met de 193i immersielithografie. Volgens een rapport van EETimes zou het kunnen dat een combinatie van deze twee technieken het beste werkt voor 5nm. TSMC is aan het testen met beide technieken, want het is nog niet geheel overtuigd van EUV.

TSMC komt naar verwachting in 2017 met zijn 10nm-productieprocedé en wellicht ook 7nm. Eerder dit jaar kwam IBM met het nieuws dat het bedrijf werkende test-chips heeft gemaakt op het 7nm-productieprocedé.

Bronnen: EETimes, Hexus

« Vorig bericht Volgend bericht »
0
*