TSMC belicht meer dan 1.000 wafers met EUV op één dag

6 reacties

ASML heeft aangekondigd dat het TSMC, één van zijn belangrijkste klanten, is gelukt om op één dag 1.000 wafers te belichten met een EUV-systeem. Daarmee is een belangrijke mijlpaal gehaald. Extreem ultraviolet licht heeft een veel kleinere golflengte dan de tot nu toe gebruikte soort licht en is daardoor nodig om transistors te kunnen maken op nog kleinere productieprocedés.

Tijdens een testrun werden om precies te zijn 1.022 wafers geproduceerd met het NXE:3300B-systeem dat ASML levert. Binnenkort zullen er ook twee nieuwere NXE:3350B-systemen worden verscheept naar Taiwan, waar TSMC ze wil inzetten voor productie. Die kosten 70 miljoen euro per stuk en zijn bedoeld voor productie op 10 nm, maar TSMC wil ze ook gebruiken om het 7nm-productieproces klaar te stomen.

De eerste werkende 10nm-chips moeten volgend jaar van de band afrollen, als TSMC zijn oorspronkelijke roadmaps aanhoudt. Waarschijnlijker is dat het 2017 wordt, omdat het 16nm-FinFET-procedé de nodige vertraging heeft opgelopen.

Een EUV-machine van het Nederlandse ASML.

Bron: ASML

« Vorig bericht Volgend bericht »
0
*